Описание
Оксид гафния – бинарное соединение гафния и кислорода с формулой HfO2.
Технические характеристики
Форма отпуска: порошок. Гранулы имеют белый цвет. Не растворяется в воде. Подвержен гидратированию. Различается по гранулометрическому составу, чистоте, насыпной плотности, валентности. Различается по модификациям. Гафний обладает высокой степенью захвата нейтронов. Чистота: 99.4%.
Применение
Оксид гафния находит применение в ядерной и атомной промышленности для изготовления стержней реакторов. Используется в приборостроении для изготовления оптики, специальных стекол, огнеупорных покрытий и стекол. При соединении с вольфрамом используется в производстве нитей ламп накаливания. Используется в химической отрасли, медицине и стоматологии, микроэлектронике и радиоэлектронике.